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高溫光催化XRD反應池_原位XRD測試池

發(fā)布日期:2025-03-19 閱讀量:51

高溫光催化XRD反應池

產(chǎn)品參數(shù)

池體材質:GH2747;

溫度范圍:室溫-900℃;

分離式樣品臺:氮化鋁;

窗口:光學藍寶石 /聚酰亞胺膜;

控溫精度:±0.1℃;

溫度均勻性:±1℃;

池體外表面溫度:≤40℃;

氣氛:可通氣氛;

水冷配置:1200W循環(huán)水冷機;

溫控配置:定制溫控儀,程序控溫,觸摸屏操作(含配套軟件)。

高溫光催化XRD反應池.png


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