產(chǎn)品說明：間歇式實驗涂布機是一款三輥轉(zhuǎn)移式涂布設(shè)備，可進(jìn)行連續(xù)和間歇涂布，方便應(yīng)用于對各種基材進(jìn)行表面涂布工藝的設(shè)備。尤其應(yīng)用于鋰離子電池行業(yè)，該設(shè)備本著方便研究者使用，同時滿足涂覆精度的要求設(shè)計，烘干效果優(yōu)異，適用于鋰離子電池、超級電容、鎳電池以及其他二次電池研發(fā)和測試。
| 適合體系 | 三元、磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、錳酸鋰、石墨、硅碳以及其它體系電池正、負(fù)極片涂布工藝 |
| 涂布 | 方式連續(xù)涂布、間歇涂布（轉(zhuǎn)移涂布機） |
| 烘箱節(jié)數(shù) | 1節(jié)1米烘箱 |
| 涂布速度 | 0～0.5米/min（視烘干情況而定） |
| 運行基材厚度 | 鋁箔（Al）8～30um 銅箔（Cu)8～30um |
| 輥面設(shè)計寬度 | 330 mm |
| 保證涂布寬度 | 280 mml以內(nèi) |
| 涂布輥，膠輥 | φ120 mm |
| 刮輥 | φ80mm |
| 涂布精度 | ±2um |
| 雙面涂膜重量精度(mg/cm2) | 涂布中心值±1.0% |
| 適合漿料黏度 | 2000～12000 (mPas) |
| 單面涂布干厚度范圍 | 20-200μm |
| 溶劑特性 | 油性溶劑NMP(s.g=1.033,b.p=204℃) |
| 水性溶劑H2O/NMP(s.g=1.000,b.p=100℃) | |
| 適合固含量范圍 | 20～85% |
| 涂布尺寸精度（mm) | L≤±1、W≤±0.5 （ L：長度方向 W：寬度方向） |
| 正反面對位精度（mm) | L≤±1、W≤±0.5 （ L：長度方向 W：寬度方向） |
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